标准编号：GB/T 26070-2010
标准名称：化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
英文名称：Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method
发布部门：国家质量监督检验检疫总局、国家标准化管理委员会
起草单位：中国科学院半导体研究所
标准状态：现行
发布日期：2011-01-10
实施日期：2011-10-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测试方法。本标准适用于GaAs、InP（GaP、GaSb可参照进行）等化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测量。
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