标准编号：YS/T 936-2013
标准名称：集成电路器件用镍钒合金靶材
英文名称：Sputtering nickel vanadium alloy target used in integrated circuit device
发布部门：工业和信息化部
起草单位：有研亿金新材料股份有限公司、北京有色金属研究总院、宁波江丰电子材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
标准状态：现行
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了集成电路器件用镍钒合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及订货单或合同内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类镍钒合金溅射靶材。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类镍钒合金溅射靶材。
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