标准编号：JC/T 2133-2012
标准名称：半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光...
英文名称：Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
起草单位：中国科学院上海硅酸盐研究所
标准状态：现行
发布日期：2012-12-28
实施日期：2013年6月1日
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。
本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶。
本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶。
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