标准编号：YS/T 893-2013
标准名称：电子薄膜用高纯钛溅射靶材
英文名称：High-purity sputtering titanium target used in electronic film
发布部门：工业和信息化部
起草单位：有研亿金新材料股份有限公司、宁波江丰电子材料有限公司
标准状态：现行
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量证明与合同（订单）等内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。
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