标准编号:YS/T 1024-2015
标准名称:溅射用钽靶材
英文名称:Tantalum sputtering targets
发布部门:中华人民共和国工业和信息化部
起草单位:宁夏东方钽业股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、西安方科新材料科技有限公司
标准状态:现行
发布日期:2015-04-30
实施日期:2015-10-01
标准格式:PDF
内容简介
本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。
本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料,通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材。
本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料,通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材。
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