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T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

标准编号:T/ICMTIA 5.3-2020
标准名称:集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
英文名称:Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits
发布部门:中关村集成电路材料产业技术创新联盟
起草单位:宁波南大光电材料有限公司
标准状态:现行
发布日期:2020-12-31
实施日期:2021-03-01
标准格式:PDF
内容简介
本文件适用于集成电路用ArF光刻胶。
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