标准编号：SJ 21199-2016
标准名称：卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法
英文名称：Technological verification procedures for horizontal plasma enhanced chemical vapor deposition equipment
发布部门：国家国防科技工业局
起草单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所
标准状态：现行
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺性能的验证方法。
本标准适用于卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备(以下简称PECVD设备)工艺性能的验证。
本标准适用于卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备(以下简称PECVD设备)工艺性能的验证。
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