标准编号：SJ 21200-2016
标准名称：平板式等离子体增强化学气相淀积设备通用规范
英文名称：General specification for flat plasma enhanced chemical vapor deposition equipment
发布部门：国家国防科技工业局
起草单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所
标准状态：现行
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01
标准格式：PDF
内容简介
本规范规定了平板式等离子体增强化学气相淀积设备(以下简称设备)的通用要求、质量保证规定、交货准备和说明事项。
本规范适用于平板式等离子体增强化学气相淀积设备的设计、生产、检验、验收和订购。
本规范适用于平板式等离子体增强化学气相淀积设备的设计、生产、检验、验收和订购。
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