标准编号:T/GVS 002-2021
标准名称:高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求
英文名称:Generic specification for high precision magnetron sputtering coating plant
发布部门:广东省真空学会
起草单位:中山凯旋真空科技股份有限公司、广东省中山市质量技术监督标准与编码所、华南理工大学、中山市博顿光电科技有限公司、中山火炬职业技术学院
标准状态:现行
发布日期:2021-06-28
实施日期:2021-06-28
标准格式:PDF
内容简介
本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于极限压力在10-5 Pa~10-3 Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备(以下简称“设备”)。
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