标准编号：SJ 21169-2016
标准名称：MEMS 惯性器件干法刻蚀工艺技术要求
英文名称：Technical requirements for MEMS inertial device dry etching process
发布部门：国家国防科技工业局
起草单位：中国电子科技集团公司第十三研究所
标准状态：现行
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了MFMS惯性器件制造过程中干法刻蚀的工艺流程、工艺要求和检验要求。
本标准适用于硅片和硅片上介质薄膜(氧化硅、氮化硅)干法刻蚀的工艺。
本标准适用于硅片和硅片上介质薄膜(氧化硅、氮化硅)干法刻蚀的工艺。
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