标准编号：SJ 21171-2016
标准名称：MEMS 惯性器件光刻工艺技术要求
英文名称：Technical requirements for MEMS inertial devices photolithography process
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
起草单位：中国电子科技集团公司第十三研究所、中国人民解放军空军驻石家庄地区军事代表
标准状态：现行
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了MEMS惯性器件制造过程中的光刻的工艺流程、工艺要求和检验要求。
本标准适用于采用接近式、接触式和投影式光刻设备的光刻工艺。
本标准适用于采用接近式、接触式和投影式光刻设备的光刻工艺。
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