T/SCGS 313004-2023 磁纳米粒子成像设备成像质量检测与评价规范

国内外科研单位和企业已研发出磁纳米粒子成像设备，但是目前国内外尚未建立专门针对磁纳米粒子成像设备成像质量检测与评价规范。磁粒子成像技术作为具有高灵敏度、高空间分辨率、高时间分辨率、无辐射、无背景信号干扰、并且无成像深度限制等优势的新一代活体断层成像技术，其所呈现出的影像质量，直接影响到诊断结果的准确性，继而影响治疗措施的准确性。因此，迫切需要建立磁纳米粒子成像设备成像质量检测与评价规范，以便规范设备成像质量检测过程。《磁纳米粒子成像设备成像质量检测与评价规范》研制的目的在于规范磁纳米粒子成像设备成像质量的检测要求和性能评价方法，制定通用要求，以规范该类产品的研发与质量评估，推动磁纳米粒子成像设备的研发和应用。