标准编号：GB/T 16879-1997
标准名称：掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
英文名称：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
发布部门：国家技术监督局
起草单位：中国科学院微电子中心
标准状态：现行
发布日期：1997-06-20
实施日期：1998-03-01
标准格式：PDF
内容简介
本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩膜制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。
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