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GB/T 14863-1993 用栅控和非栅控二极管的电压-电容关系测定硅外延层中净载流子浓度的标准方法

标准编号:GB/T 14863-1993
标准名称:用栅控和非栅控二极管的电压-电容关系测定硅外延层中净载流子浓度的标准方法
英文名称:Standard test method for net carrier density in silicon epitaxial layers by voltage-capacitance of gated and ungated diodes
发布部门:国家技术监督局
起草单位:机械电子工业部46所和4所
标准状态:作废
发布日期:1993-12-30
实施日期:1994-10-01
标准格式:PDF
内容简介
本标准规定了用栅控和非栅控二极管的电压电容关系测定硅外延层中净载流子浓度的原理、仪器与材料、样品制备、测量步骤和数据处理。
  本标准适用于外延层厚度不小于某一最小厚度值(见附录B)的相同或相反导电类型衬底上的n型或p型外延层,也适用于体材料。
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