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GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件

标准编号:GB/T 18682-2002
标准名称:物理气相沉积TiN薄膜技术条件
英文名称:Specifications of physical vapour deposition TiN films
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
起草单位:武汉材料保护研究所
标准状态:现行
发布日期:2002-03-10
实施日期:2002-08-01
标准格式:PDF
内容简介
本标准规定了物理气相沉积TIN薄膜的技术要求。
  本标准适用于物理气相沉积TIN薄膜,也适用于其他方法制备的TIN薄膜。本标准也适用于其他材料沉积层(TIC,TICN,TIALN等)。
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