标准编号:GB/T 19922-2005
标准名称:硅片局部平整度非接触式标准测试方法
英文名称:Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
起草单位:洛阳单晶硅有限责任公司
标准状态:现行
发布日期:2005-09-19
实施日期:2006-04-01
标准格式:PDF
内容简介
本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。
本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。
本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。
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