标准编号：GB/T 28274-2012
标准名称：硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
英文名称：Silicon-based MEMS fabrication technology - The basic regulation of layout design
发布部门：国家质量监督检验检疫总局、国家标准化管理委员会
起草单位：北京大学、中机生产力促进中心、中国电子科技集团第十三研究所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、西北工业大学
标准状态：现行
发布日期：2012-05-11
实施日期：2012-12-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了微结构加工时，光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。
本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学汽相淀积〔CVD〕、物理汽相淀积〔PVD〕、离子注入、反应离子刻蚀〔RIE〕、氢氧化钾〔KOH〕腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学汽相淀积〔CVD〕、物理汽相淀积〔PVD〕、离子注入、反应离子刻蚀〔RIE〕、氢氧化钾〔KOH〕腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
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