标准编号：GB/T 30653-2014
标准名称：Ⅲ族氮化物外延片结晶质量测试方法
英文名称：Test method for crystal quality of III-nitride epitaxial layers
发布部门：国家质量监督检验检疫总局、国家标准化管理委员会
起草单位：中国科学院半导体研究所
标准状态：现行
发布日期：2014-12-31
实施日期：2015-09-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了利用高分辨X射线衍射仪测试Ⅲ族氮化物外延片结晶质量的方法原理、仪器、测试环境、样品、测试、测试结果的分析、精密度以及测试报告。
本标准适用于在氧化物衬底（Al2O3、ZnO等）或半导体衬底（GaN、Si、GaAs、SiC等）上外延生长的氮化物(Ga、In、Al)N单层或多层异质外延片结晶质量的测试。其他异质外延片结晶质量的测试也可参考本标准。
本标准适用于在氧化物衬底（Al2O3、ZnO等）或半导体衬底（GaN、Si、GaAs、SiC等）上外延生长的氮化物(Ga、In、Al)N单层或多层异质外延片结晶质量的测试。其他异质外延片结晶质量的测试也可参考本标准。
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