标准编号：GB/T 24578-2015
标准名称：硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
英文名称：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by totral reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
发布部门：国家质量监督检验检疫总局、国家标准化管理委员会
起草单位：有研新材料股份有限公司、万向硅峰电子股份有限公司、浙江省硅材料质量检验中心
标准状态：现行
发布日期：2015-12-10
实施日期：2017-01-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了使用全反射x光荧光光谱，定量测定硅拋光衬底表面层的元素面密度的方法。
本标准适用于硅单晶抛光片、外延片（以下称硅片），尤其适用于硅片清洗后自然氧化层，或经化学方法生长 的氧化层中沾污元素面密度的测定，测定范围为109 atoms/cm2〜1015 atoms/cm2 0本标准同样适用于其他半导体材料，如砷化镓、碳化硅、SOI等镜面抛光晶片表面金属沾污的测定。
本标准适用于硅单晶抛光片、外延片（以下称硅片），尤其适用于硅片清洗后自然氧化层，或经化学方法生长 的氧化层中沾污元素面密度的测定，测定范围为109 atoms/cm2〜1015 atoms/cm2 0本标准同样适用于其他半导体材料，如砷化镓、碳化硅、SOI等镜面抛光晶片表面金属沾污的测定。
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