标准编号：GB/T 34649-2017
标准名称：磁控溅射用钌靶
英文名称：Magnetron sputtering ruthenium target
发布部门：国家质检总局 国家标准委
起草单位：有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院
标准状态：现行
发布日期：2017-09-29
实施日期：2018-04-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了磁控溅射用钉靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。
本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶(以下简称钉靶)。
本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶(以下简称钉靶)。
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