标准编号：SJ/T 11503-2015
标准名称：碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
英文名称：Test methods for measuring surface roughness of polished monocrystalline silicon carbide wafers
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
起草单位：中国电子科技集团公司第四十六研究所、北京天科合达蓝光半导体有限公司、工业和信息化部电子工业标准化研究
标准状态：现行
发布日期：2015-04-30
实施日期：2015-10-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了测试碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法，包括表面轮廓仪法和原子力显微镜法。
本标准适用于碳化桂单晶拋光片表面粗糙度的测试。其中，原子力显微镜法仅适用于经过化学机械拋光或光学抛光且表面粗糙度的起伏在零点几納米至几微米范围内的碳化硅单晶抛光片。
本标准适用于碳化桂单晶拋光片表面粗糙度的测试。其中，原子力显微镜法仅适用于经过化学机械拋光或光学抛光且表面粗糙度的起伏在零点几納米至几微米范围内的碳化硅单晶抛光片。
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