标准编号：GB/T 37049-2018
标准名称：电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
英文名称：Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
发布部门：国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
起草单位：江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司
标准状态：现行
发布日期：2018-12-28
实施日期：2019-04-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。
本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5 ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。
本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5 ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。
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