标准编号：T/IAWBS 014-2021
标准名称：碳化硅单晶抛光片位错密度的测试方法
英文名称：Test method for dislocation density of silicon carbide polished wafers
发布部门：中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟
起草单位：中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟，北京天科合达半导体股份有限公司
标准状态：现行
发布日期：2021-09-15
实施日期：2021-09-22
标准格式：PDF
内容简介
本文件规定了碳化硅单晶抛光片位错密度的测试方法。本文件适用于晶面偏离{0001}面角度为0°～8°的碳化硅单晶抛光片的位错密度的测试。
下载地址