标准编号:SJ 21479-2018
标准名称:磷化铟晶片研磨工艺技术要求
英文名称:Technical requirements for the lapping process of InP wafer
发布部门:国家国防科技工业局
起草单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
标准状态:现行
发布日期:2018-12-29
实施日期:2019-03-01
标准格式:PDF
内容简介
本标准规定了军用磷化锢晶片研磨工艺的人员、环境、安全、材料、设备和仪器等一般要求,以及磷化锢晶片研磨工艺的典型工艺流程、各工序技术要求、检验要求等详细要求。
本标准适用于磷化锢晶片研磨工艺。
本标准适用于磷化锢晶片研磨工艺。
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