标准编号：T/CIE 132-2022
标准名称：磁控溅射设备薄膜精度测试方
发布部门：中国电子学会
起草单位：北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司
发布日期：2022-08-10
实施日期：2022-08-10
标准状态：现行
标准格式：PDF
文件大小：2.66 MB
内容简介
本标准给出了磁控溅射设备薄膜精度评价的术语、测试原理、被测件、测试环境、测试设备、测试程序等。
本标准适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。
本标准适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。
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