标准编号：GB/T 14849.4-2014
标准名称：工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
英文名称：Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
发布部门：国家质量监督检验检疫总局、国家标准化管理委员会
起草单位：昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司、云南出入境检验检疫局技术中心等
标准状态：现行
发布日期：2014-12-05
实施日期：2015-08-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准的该部分规定了工业硅中铁、铝、钙等杂质元素含量的测定方法，电感耦合等离子体原子发射光谱法。
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