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GB/T 34900-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法

标准编号:GB/T 34900-2017
标准名称:微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
英文名称:Micro-electromechanical system technology-Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
发布部门:国家质检总局 国家标准委
起草单位:天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南京理工大学、中国电子科技集团公司第十三研究所
标准状态:现行
发布日期:2017-11-01
实施日期:2018-05-01
标准格式:PDF
内容简介
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取的微双端固支梁结构表面形貌进行残余应变测量的方法。
本标准适用于表面反射率不低于4%且使用光学干涉显微镜能够获取表面形貌的微双端固支梁结构。
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