标准编号：GB/T 24580-2009
标准名称：重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
英文名称：Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
起草单位：信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所
标准状态：现行
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准规定了重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱测试方法。
本标准适用于二次离子质谱法（SIMS）对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污（总量）的测试。
本标准适用于二次离子质谱法（SIMS）对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污（总量）的测试。
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