标准编号：GB/T 14849.4-2008
标准名称：工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
英文名称：Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
发布部门：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
起草单位：中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等
标准状态：作废
发布日期：2008-06-09
实施日期：2008-12-01
标准格式：PDF
内容简介
GB/T14849《工业硅化学分析方法》分为四部分，本部分为第4部分。
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分也适用于以上其含量的测定。
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分也适用于以上其含量的测定。
下载地址