标准编号：GB/T 29505-2013
标准名称：硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
英文名称：Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer
发布部门：国家质量监督检验检疫总局、国家标准化管理委员会
起草单位：有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
标准状态：现行
发布日期：2013-05-09
实施日期：2014-02-01
标准格式：PDF
内容简介
本标准提供了硅片表面粗糙度测量常用的轮廓仪、干涉仪、散射仪三类方法的测量原理、测量设备和程序，并规定了硅片表面局部或整个区域的标准扫描位置图形及粗糙度缩写定义。
本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量；也可用于其他类型的平坦晶片材料，但不适用于晶片边缘区域的粗糙度测量。本标准不适用于测量仪器的带宽空间波长≤10nm。
本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量；也可用于其他类型的平坦晶片材料，但不适用于晶片边缘区域的粗糙度测量。本标准不适用于测量仪器的带宽空间波长≤10nm。
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