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GB/T 6620-2009 硅片翘曲度非接触式测试方法

标准编号:GB/T 6620-2009
标准名称:硅片翘曲度非接触式测试方法
英文名称:Test method for measuring warp on silicon slices by noncontact scanning
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
起草单位:洛阳单晶硅有限责任公司、万向硅峰电子股份有限公司
标准状态:现行
发布日期:2009-10-30
实施日期:2010-06-01
标准格式:PDF
内容简介
本标准规定了硅单晶切割片、研磨片、抛光片(以下简称硅片)翘曲度的非接触式测试方法。
本标准适用于测量直径大于50 mm,厚度大于180?m的圆形硅片。
本标准也适用于测量其他半导体圆片的翘曲度。
本测试方法的目的是用于来料验收或过程控制。
本测试方法也适用于监视器件加工过程中硅片翘曲度的热化学效应。
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